叉指电极掩膜板标定板光刻掩膜版边缘光滑生产周期快

叉指电极掩膜板  标定板光刻掩膜版 定制加工边缘光滑生产周期快
 

金属MASK的精密度：0.001MM至0.08MM，误差正负0.001MM，小线宽0.025mm

华诺恒宇公司   可做的金属MASK厚度有以下几种：0.01,0.025,0.03,0.038,0.04,0.05,0.075,0.08,0.1,0.25,0.3,0.5,0.75,0.1,1.5mm

主营产品

 精密金属片、无连接点品牌LOGO、无连接点精密垫片、精密喇叭网、打印机电极、金属码盘、贴膜垫片、贴膜钢片、贴膜不锈钢片、掩模板、光栅片、过滤网、防尘网、铝材工艺品、不锈钢工艺品、精密弹片、打印机配件、引线框架、银行柜员机配件等激光精密切割产品生产及销售

主营产品掩膜板,掩膜夹具,金属mask,蒸镀罩,压缩机阀片,精密光栅,,垫片垫圈,钼片,不锈钢狭缝,热熔胶喷片,光电编码器,精密金属片、无连接点品牌LOGO、无连接点精密垫片、精密喇叭网、打印机电极、金属码盘、贴膜垫片、贴膜钢片、贴膜不锈钢片、掩模板、光栅片、过滤网、防尘网、铝材工艺品、不锈钢工艺品、精密弹片、打印机配件、引线框架、银行柜员机配件等激光精密切割产品生产及销售。

专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工，公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、格力、美的、飞利浦等大客户的认可。

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

 华诺激光在北京 天津均有办公地点 

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